Die Technische Universität Chemnitz ist eine innovative Wissenschafts- und Bildungseinrichtung, die sich den Herausforderungen im Wettbewerb zwischen den Hochschulen bewusst stellt. Sie bietet Persönlichkeiten mit ausgewiesener fachlicher Kompetenz, die konstruktiv an der innovativen Weiterentwicklung mitwirken möchten, attraktive Arbeitsplätze.

Zum nächstmöglichen Zeitpunkt ist an der Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik, am Zentrum für Mikrotechnologien, eine Stelle als teilzeitbeschäftigte/r

### **Wissenschaftliche/r Mitarbeiter/in (m/w/d)**

### (50 %, Entgeltgruppe 13 TV-L)

befristet bis 31.08.2028, mit der Option auf Weiterbeschäftigung zu besetzen.

Die befristete Einstellung erfolgt gemäß den Regelungen des Wissenschaftszeitvertragsgesetzes (WissZeitVG) und des Sächsischen Hochschulgesetzes (SächsHSG) in der jeweils geltenden Fassung.

**Arbeitsaufgaben**:

- **Wissenschaftliche Verantwortung im Rahmen des HaloFreeEtch-Projekts**: Koordination und Durchführung von Versuchsreihen zur Entwicklung und Optimierung halogenfreier Ätzprozesse für Silizium unter Ausnutzung von Mechanismen des Atomlagenlagenätzens, einschließlich der Evaluierung alternativer Hartmaskensysteme
- **Erforschung Entwicklung von nachhaltigen Ätzverfahren:** Erprobung und Evaluierung Neuartiger Präkusoren sowohl an Forschungs- als auch an Industriereaktoren
- **Analyse und Charakterisierung der Ätzprozesse**: Erstellung von Messkonzepten zur präzisen Charakterisierung der strukturierten Materialien.
- **Literaturrecherche und wissenschaftliche Dokumentation**: Untersuchung des aktuellen Forschungsstands zu halogenfreien Ätzverfahren und deren Anwendung in der Halbleiterfertigung.
- **Zusammenarbeit mit internationalen Projektpartnern**: Enge Kooperation mit den Partnern des HaloFreeEtch-Projekts
- **Veröffentlichung der Forschungsergebnisse**: Präsentation der Ergebnisse auf Konferenzen und in Fachzeitschriften.
- **Betreuung von Studierenden**: Unterstützung bei der Betreuung von Abschlussarbeiten und studentischen Projekten im Themenfeld der Trockenstrukturierung.

Ihre Forschungsergebnisse nutzen Sie für wissenschaftliche Veröffentlichungen und die eigene Qualifizierung. Es handelt sich um eine Stelle zur wissenschaftlichen Weiterqualifikation.

Wenn Sie die Zusammenarbeit in einem interdisziplinären, hoch motivierten Team und die akademische Auseinandersetzung mit einem Thema hoher praktischer Relevanz reizen, sollten Sie die Einstellungskriterien gem. § 73 SächsHSG erfüllen, insbesondere folgende **Voraussetzungen** mitbringen:

- Abgeschlossenes wissenschaftliches Hochschulstudium (Diplom, Master oder gleichwertiger Abschluss) im Bereich Mikrosysteme und Mikroelektronik oder vergleichbarer Disziplinen, welches den Zugang zur entsprechenden Qualifikationsebene eröffnet
- Ausgewiesene Vorkenntnisse und praktische Erfahrungen in den Bereichen Atomlagenätzen und Atomlagenabscheiden
- Praktische Erfahrungen in der Betreuung von Fertigungsprozessen in einer mikro- und nanotechnologischen Prozesslinie
- Tiefgehende Kenntnisse in der Oberflächencharakterisierung, insbesondere in der Ellipsometrie, sowie Erfahrung in der Erstellung dielektrischer Funktionen
- Sehr gute Englischkenntnisse in Wort und Schrift
- Teamfähigkeit, Kreativität sowie selbstständiges und strukturiertes Arbeiten an einer wissenschaftlichen Fragestellung
- Interesse an innovativen Lösungen und ergebnisorientiertem Arbeiten

**Wir bieten Ihnen:**

- Mitarbeit in einem kooperativen und hilfsbereiten Team
- attraktive und familienfreundliche Arbeitsbedingungen
- vielfältiges Mensaangebot für die Pausenversorgung
- optimale Verkehrsanbindung aller Universitätsstandorte an den öffentlichen Personennahverkehr/Vergünstigungen bei der Nutzung des ÖPNV (Job-Ticket)
- attraktive Angebote der Gesundheitsförderung
- vielfältige Fort- und Weiterbildungsmöglichkeiten
- 30 Tage kalenderjährlichen Urlaub bei einer 5-Tage-Arbeitswoche
- Betriebliche Altersvorsorge (VBL), Jahressonderzahlung und vermögenswirksame Leistungen

Die Auswahl erfolgt nach Eignung, Befähigung und fachlicher Leistung. Wir freuen uns über Bewerbungen von Menschen – unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion/Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität. Wir bieten darüber hinaus allen Mitarbeitenden eine familienfreundliche Infrastruktur, in einem weltoffenen, von Internationalisierung und Vielfältigkeit geprägten Umfeld. Die TU Chemnitz setzt aktiv auf die Vielfalt und Gleichstellung aller Mitarbeitenden und ist bestrebt, schwerbehinderte Menschen oder ihnen Gleichgestellte besonders zu fördern, achtet im Bewerbungsverfahren bei gleicher Eignung auf eine bevorzugte Berücksichtigung und bittet daher um einen entsprechenden Hinweis in Ihrer Bewerbung.

Bitte sehen Sie unbedingt von der Einsendung von Originalunterlagen ab, da Ihre schriftlichen Unterlagen nicht zurückgesendet, sondern unter Beachtung datenschutzrechtlicher Bestimmungen vernichtet werden. Wünschen Sie eine Rücksendung, legen Sie Ihrer Bewerbung bitte einen ausreichend frankierten und adressierten Rückumschlag bei.

Bewerbungen sind [unter dem Stichwort »** HaloFreeEtch2**«] mit den üblichen Unterlagen bis **23.01.2026** [elektronisch oder postalisch] an u.a. Adresse zu richten. Bitte beachten Sie, dass aus sicherheitstechnischen Gründen keine elektronischen Bewerbungen bzw. Anhänge von Bewerbungen im Stellenbesetzungsverfahren berücksichtigt werden können, welche über Verknüpfungen (Hyperlinks) zu Dritten zum Download zur Verfügung gestellt werden.

Technische Universität Chemnitz

Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik

Zentrum für Mikrotechnologien

Ansprechpartnerin: Tina Kießling

09107 Chemnitz

E-Mail: [tina.kiessling@zfm.tu-chemnitz.de](https://mailto:tina.kiessling@zfm.tu-chemnitz.de)

Die entsprechenden Informationen zur Erhebung und Verarbeitung personenbezogener Daten finden Sie unter [https://www.tu-chemnitz.de/verwaltung/personal/public/Datenschutz/dse\_dp.html](https://www.tu-chemnitz.de/verwaltung/personal/public/Datenschutz/dse_dp.html "Datenschutz").